罗斯莫斯科电子技术学院（MIET）日前宣布，将开展制造光刻机

俄罗斯莫斯科电子技术学院（MIET）日前宣布，将开展制造光刻机。ASML采用的是极紫外光EUV，波长13.5nm，而俄罗斯研发的则是基于同步辐射加速器和等离子体源的X射线光刻机，使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间。

由于波长够短，可以做到不需要光掩模版，如果俄罗斯成功了，那真是既省钱又省心。俄罗斯如何搞定X射线工艺以及效率的提升问题，全世界都拭目以待。
俄罗斯2002年时就开展了一个名为“基于微聚焦X射线管列阵的软X射线源研制，适用于10nm无掩膜光刻机”的项目研究，很有实力。